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簡要描述：Eksma 高能偏振立方體分束器高能量偏振分束器通過光學接觸以用于大功率應用。它們具有準確的表面質(zhì)量和高消光比。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2026-02-08訪 問 量：1515詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 高能偏振立方體分束器
高能量偏振分束器通過光學接觸以用于大功率應用。它們具有準確的表面質(zhì)量和高消光比。
Eksma 高能偏振立方體分束器
產(chǎn)品介紹
Ø光學接觸，適用于大功率應用
Ø典型的損壞閾值：> 15 J / cm2、10 ns，10 Hz在1064 nm下
Ø尺寸-12.7 x 12.7 x 12.7毫米
Ø精密的表面質(zhì)量
Ø高消光比
高能偏振立方分束鏡由UV FS制成，經(jīng)過優(yōu)化，可用于355、532、800、1064 nm的波長或420-680 nm和700-1080 nm的波長范圍。
立方體分束器是光學接觸的，具有高達15 J / cm2的激光損傷閾值。立方分束器的所有四個外表面均具有抗反射鍍膜。提供高能量偏振立方體，未安裝或可方便地安裝在M2P的安裝座上。
產(chǎn)品型號
未安裝的立方偏振分束器
型號 | 工作波長 | 激光損傷閾值 |
435-1127 | 355 nm | >3 J/cm2 at 355 nm |
435-1121 | 532 nm | >6 J/cm2 at 532 nm |
435-1122 | 800 nm | >8 J/cm2 at 800 nm |
435-1123 | 1064 nm | >15 J/cm2 at 1064 nm |
436-1121 | 420-680 nm | >1 J/cm2 at 532 nm |
436-1123 | 700-1080 nm | >2 J/cm2 at 1064 nm |
固定式立方偏振分光鏡
型號 | 工作波長 | 激光損傷閾值 |
435-1127-M2Ps | 355 nm | >3 J/cm2 at 355 nm |
435-1121-M2Ps | 532 nm | >6 J/cm2 at 532 nm |
435-1122-M2Ps | 800 nm | >8 J/cm2 at 800 nm |
435-1123-M2Ps | 1064 nm | >15 J/cm2 at 1064 nm |
436-1121-M2Ps | 420-680 nm | >1 J/cm2 at 532 nm |
436-1123-M2Ps | 700-1080 nm | >2 J/cm2 at 1064 nm |
材料 | UV FS |
尺寸 | 12.7 x 12.7 x 12.7 mm |
尺寸公差 | ±0.2 mm |
消光比 | >1:500 |
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
波前畸變 | λ/10 @ 633 nm |
通光孔徑 | >85% of size |
光束偏差 | <3 arcmin |
反射S偏振 | >99.5% |
透射p偏振 | >97% for laser line |
激光損傷閾值 | >15 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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